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盛陽淺談:技術(shù)特征的比對原則及方法之全面覆蓋原則

返回列表 來源:盛陽專利 發(fā)布日期:2024-10-21 14:01:00
發(fā)明、實用新型專利權(quán)的侵權(quán)判定一般包括全面覆蓋原則、等同原則、禁止反悔原則和捐獻原則,下面帶大家一起來了解一下全面覆蓋原則。
盛陽淺談:技術(shù)特征的比對原則及方法之全面覆蓋原則
盛陽淺談:技術(shù)特征的比對原則及方法之全面覆蓋原則


全面覆蓋原則是判斷一項技術(shù)方案是否侵犯發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的基本原則。具體含義是指,在判定被訴侵權(quán)技術(shù)方案是否落入專利權(quán)的保護范圍,應當審查權(quán)利人主張的權(quán)利要求所記載的全部技術(shù)特征,并以權(quán)利要求中記載的全部技術(shù)特征與被訴侵權(quán)技術(shù)方案所對應的全部技術(shù)特征逐一進行比較。被訴侵權(quán)技術(shù)方案包含與權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征相同或者等同的技術(shù)特征的,應當認定其落入專利權(quán)的保護范圍。

進行侵權(quán)判定,不應以當事人提供的專利產(chǎn)品與被訴侵權(quán)技術(shù)方案直接進行比對,但專利產(chǎn)品可以幫助理解有關(guān)技術(shù)特征與技術(shù)方案。

權(quán)利人、被訴侵權(quán)人均有專利權(quán)時,一般不能將雙方專利產(chǎn)品或者雙方專利的權(quán)利要求進行比對。

被訴侵權(quán)技術(shù)方案包含了與權(quán)利要求限定的一項完整技術(shù)方案記載的全部技術(shù)特征相同的對應技術(shù)特征,屬于相同侵權(quán),即字面含義上的侵權(quán)。

當權(quán)利要求中記載的技術(shù)特征采用上位概念,而被訴侵權(quán)技術(shù)方案的相應技術(shù)特征采用的是相應的下位概念的,應認定構(gòu)成相同技術(shù)特征。

被訴侵權(quán)技術(shù)方案在包含了權(quán)利要求中的全部技術(shù)特征的基礎上,又增加了新的技術(shù)特征的,仍然落入專利權(quán)的保護范圍,但專利文件明確排除該技術(shù)特征的除外。

被訴侵權(quán)技術(shù)方案在包含一項封閉式權(quán)利要求全部技術(shù)特征的基礎上,增加其他技術(shù)特征的,應當認定被訴侵權(quán)技術(shù)方案未落入該權(quán)利要求的保護范圍。但對于醫(yī)藥、化學領域中涉及組分的封閉式權(quán)利要求,該增加的技術(shù)特征屬于不可避免的常規(guī)數(shù)量雜質(zhì)的除外。

對于包含功能性特征的權(quán)利要求,與本指南第19條所述的結(jié)構(gòu)、步驟特征相比,被訴侵權(quán)技術(shù)方案的相應結(jié)構(gòu)、步驟特征是以相同的手段,實現(xiàn)了相同的功能,產(chǎn)生了相同的效果,或者雖有區(qū)別,但是以基本相同的手段,實現(xiàn)了相同的功能,達到相同的效果,而且本領域普通技術(shù)人員在專利申請日時無需經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的,應當認定該相應結(jié)構(gòu)、步驟特征與上述功能性特征相同。

在判斷上述結(jié)構(gòu)、步驟特征是否構(gòu)成相同特征時,應當將其作為一個技術(shù)特征,而不應將其區(qū)分為兩個以上的技術(shù)特征。

在后獲得專利權(quán)的發(fā)明或?qū)嵱眯滦褪菍υ谙劝l(fā)明或實用新型專利的改進,在后專利的某項權(quán)利要求記載了在先專利某項權(quán)利要求中記載的全部技術(shù)特征,又增加了另外的技術(shù)特征的,在后專利屬于從屬專利。實施從屬專利落入在先專利的保護范圍。

下列情形屬于從屬專利:
(1)在包含了在先產(chǎn)品專利權(quán)利要求的全部技術(shù)特征的基礎上,增加了新的技術(shù)特征;
(2)在原有產(chǎn)品專利權(quán)利要求的基礎上,發(fā)現(xiàn)了原來未曾發(fā)現(xiàn)的新的用途;
(3)在原有方法專利權(quán)利要求的基礎上,增加了新的技術(shù)特征。
綜上,相信大家能夠了解專利侵權(quán)中的全面覆蓋原則了,如果侵權(quán)技術(shù)方案涵蓋了權(quán)利要求中所有的特征此時就能夠被判定全面覆蓋。


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